詳細摘要： 本產品是“感應耦合離子體刻蝕機(ICP)"的全自動產品
產品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言北京金盛微納科技有限公司
北京金盛微納科技有限公司
詳細摘要： 本產品是利用低能量平行Ar+離子束對基片表面進行轟擊，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達到選擇刻蝕的目的，它采用純物理的刻蝕原理
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詳細摘要： 本產品是在“全自動ICP"的基礎上增加了進樣室、真空鎖和機械手自動取送樣片裝置而成的設備
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詳細摘要： 詳細描述本設備通過對真空系統、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復性、穩定性、可靠性得到有效保證
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詳細摘要： 詳細描述本設備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應用于相關領域的器件研發和制造
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詳細摘要： 詳細描述本產品具有三種功能：等離子體刻蝕(PE)、反應離子刻蝕(RIE)、感應耦合等離子體刻蝕(ICP)
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詳細摘要： 詳細描述本產品采用口徑φ150mm考夫曼型離子源，通過結構的雙鉬柵離子光學系統及SHAG技術保證在φ100mm范圍內束流的均勻性為±5%，電子中和...
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詳細摘要： 詳細描述本設備具有選擇比好，刻蝕速度快、重復性好等特點，它較RIE具有更好的綜合刻蝕效果且應用范圍更廣
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詳細摘要： 本設備帶有進/取樣室、真空鎖和機械手自動送/取樣片裝置
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詳細摘要： 詳細描述本設備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應用于相關領域的器件研發和制造
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詳細摘要： 本產品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬，單層、多層膜
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