北京金盛微納科技有限公司
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詳細描述本設備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應用于相關領域的器件研發和制造
詳細描述
本設備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應用于相關領域的器件研發和制造。
產品主要性能指標
型號 | PECVD-2D |
真空系統 | 分子泵機組 |
淀積室數量 | 雙室 |
淀積室規格 | ?400×150mm |
樣片臺尺寸 | ?290mm（熱均勻區?220mm） |
加熱溫度 | ≤ 300℃ |
淀積材料 | SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、類金剛石等 |
淀積速率 | 200 ～300 ?/min （與淀積材料和工藝有關） |
淀積不均勻性 | ≤ ±5% |
操作方式 | 手動 |
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