特性：
1、FMR是負性感光抗蝕劑，有較好的耐酸、耐堿性。
2、FMR的解像性比較好，由于抗蝕劑中的金屬離子含量極少，所以適合于半導體管（電晶體）、二極體、IC（集成電路）和LSI（大規模高密度集成電路）等方面使用。

使用方法：
1、表面處理：對金屬板進行*的脫脂、脫錆，請用本公司的Neocupron（用水稀釋5-10倍）和弱堿水（2%氨水）進行中和，脫脂后請充分用水洗。
2、涂布處理：可用多種涂布方法，如旋轉、浸蘸、噴涂等。
3、烘干：置入熱風恒溫干燥器中，80-1000C，20分鐘；或置于加熱板上，80-1000C，2分鐘。
4、曝光：用i線（365nm）~g線（436nm）曝光。
5、顯像：使用FMR顯像液，在常溫下顯影1分鐘，用FMR洗滌液沖洗30秒。
6、烘烤：在1500C的情況下，加熱20-30分鐘，或置于加熱板上，1500C，3分鐘，可以提高耐腐蝕性。
7、蝕刻：按常規處理。
8、剝膜：使用FMR剝膜液，在常溫下浸漬2-3分中，然后用水洗。