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【供應】MK-BDT50D 半導體激光打標機
- 公司名稱：
- 更新時間：
- 所 在 地：
- 生產地址：
- 瀏覽次數：
- 昆山鐳射麥克激光技術有限公司
- 2018-05-14 09:00:00
- 476
【簡單介紹】
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用上的半導體泵浦激光技術,主要原理是利用波長808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG晶體，使YAG棒產生大量的反轉粒子，在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴束、聚焦，Z后通過控制振鏡的偏轉實現標刻。半導體激光器的運用是激光打標領域的一次突破性變革,具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無耗材等顯著優點。
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用靈活的外形設計，外形美觀、操作方便。重要光學部件均為歐美*，光路系統采用全密封結構、適合24小時工作的連續激光加工需求。
應用行業
特別適用于滿足高精度加工需求。應用于電子元器件、五金制品、工具配件、集成電路（IC）、電工電器、手機通訊、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、塑料按鍵、建材、PVC管材、科研等行業。
適用材料
可雕刻金屬及多種非金屬材料。普通金屬及合金，稀有金屬及合金，金屬氧化物，特殊表面處理（如磷化、鋁陽極化
【詳細說明】
設備簡介
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用上的半導體泵浦激光技術,主要原理是利用波長808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG晶體，使YAG棒產生大量的反轉粒子，在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴束、聚焦，zui后通過控制振鏡的偏轉實現標刻。半導體激光器的運用是激光打標領域的一次突破性變革,具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無耗材等顯著優點。
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用靈活的外形設計，外形美觀、操作方便。重要光學部件均為歐美*，光路系統采用全密封結構、適合24小時工作的連續激光加工需求。
應用行業
特別適用于滿足高精度加工需求。應用于電子元器件、五金制品、工具配件、集成電路（IC）、電工電器、手機通訊、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、塑料按鍵、建材、PVC管材、科研等行業。
適用材料
可雕刻金屬及多種非金屬材料。普通金屬及合金，稀有金屬及合金，金屬氧化物，特殊表面處理（如磷化、鋁陽極化、電鍍表面），ABS料（如電器外殼等），油墨噴涂件（如透光按鍵、印刷制品），環氧樹脂（電子組件的封裝、絕緣層）。
系統特點
高穩定
半導體泵浦激光標記系統采用半導體技術取代傳統的電真空技術。激勵源采用大功率半導體矩陣，大大延長了產品的壽命和系統的穩定性。半導體激光打標系統的系統集成度高，不需要高壓電源，高壓器件，*地保證系統可靠性。全新的光路密封方式，保證了泵浦頭的安全工作，免維護周期長。
高精度
半導體泵浦激光打標系統輸出光束質量更趨近理想模式，更適合于超精細加工，zui小字符尺寸可達0.2mm。
速度快
半導體泵浦激光打標系統采用超精細的光學器件，其振鏡速度遠高于傳統激光系統。在雕刻相同效果下可明顯提高打標速度，典型的應用如打反白效果、除鋁表面陽極化處理層。還可在不銹鋼板上標記出顏色鮮艷重復性高的圖案。
能耗低
半導體激光打標系統應用高效半導體矩陣，使激光轉換效率大為提高。
體積小
高度集成化的控制系統，有利于顧客更好地利用工廠空間。
技術參數
激光功率50W
激光波長10640nm
脈沖頻率500Hz-50KHz
操作系統Windows XP
標準打標范圍110mm×110mm
選配器件旋轉裝置/抽風/夾具
供電電源220VAC/10A/50-60HZ
平均功耗≤1KW（CK-DP50）；≤1.5KW（CK-DP75）
打標深度0.01-0.2mm（視材料可調）
打標線寬0.01-0.2mm（視材料可調）
工作環境溫度15℃-30℃；濕度30-80%
凈 重180kg
主機尺寸110cm×87cm×112cm
冷卻系統恒溫冷卻機組
冷卻介質純凈水或蒸餾水
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用上的半導體泵浦激光技術,主要原理是利用波長808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG晶體，使YAG棒產生大量的反轉粒子，在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴束、聚焦，zui后通過控制振鏡的偏轉實現標刻。半導體激光器的運用是激光打標領域的一次突破性變革,具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無耗材等顯著優點。
MK-BDT50D半導體泵浦系列激光打標機采用靈活的外形設計，外形美觀、操作方便。重要光學部件均為歐美*，光路系統采用全密封結構、適合24小時工作的連續激光加工需求。
應用行業
特別適用于滿足高精度加工需求。應用于電子元器件、五金制品、工具配件、集成電路（IC）、電工電器、手機通訊、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、塑料按鍵、建材、PVC管材、科研等行業。
適用材料
可雕刻金屬及多種非金屬材料。普通金屬及合金，稀有金屬及合金，金屬氧化物，特殊表面處理（如磷化、鋁陽極化、電鍍表面），ABS料（如電器外殼等），油墨噴涂件（如透光按鍵、印刷制品），環氧樹脂（電子組件的封裝、絕緣層）。
系統特點
高穩定
半導體泵浦激光標記系統采用半導體技術取代傳統的電真空技術。激勵源采用大功率半導體矩陣，大大延長了產品的壽命和系統的穩定性。半導體激光打標系統的系統集成度高，不需要高壓電源，高壓器件，*地保證系統可靠性。全新的光路密封方式，保證了泵浦頭的安全工作，免維護周期長。
高精度
半導體泵浦激光打標系統輸出光束質量更趨近理想模式，更適合于超精細加工，zui小字符尺寸可達0.2mm。
速度快
半導體泵浦激光打標系統采用超精細的光學器件，其振鏡速度遠高于傳統激光系統。在雕刻相同效果下可明顯提高打標速度，典型的應用如打反白效果、除鋁表面陽極化處理層。還可在不銹鋼板上標記出顏色鮮艷重復性高的圖案。
能耗低
半導體激光打標系統應用高效半導體矩陣，使激光轉換效率大為提高。
體積小
高度集成化的控制系統，有利于顧客更好地利用工廠空間。
技術參數
激光功率50W
激光波長10640nm
脈沖頻率500Hz-50KHz
操作系統Windows XP
標準打標范圍110mm×110mm
選配器件旋轉裝置/抽風/夾具
供電電源220VAC/10A/50-60HZ
平均功耗≤1KW（CK-DP50）；≤1.5KW（CK-DP75）
打標深度0.01-0.2mm（視材料可調）
打標線寬0.01-0.2mm（視材料可調）
工作環境溫度15℃-30℃；濕度30-80%
凈 重180kg
主機尺寸110cm×87cm×112cm
冷卻系統恒溫冷卻機組
冷卻介質純凈水或蒸餾水
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