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簡(jiǎn)要描述：景深數(shù)碼顯微鏡蔡司公司面向發(fā)布一款智能3D數(shù)碼顯微鏡Smartzoom5，這是一款為工業(yè)質(zhì)量控制領(lǐng)域及研究方向的客戶提供的一項(xiàng)全新解決方案。可對(duì)樣品進(jìn)...

簡(jiǎn)要描述：結(jié)合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測(cè)量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

簡(jiǎn)要描述：多角度激光橢偏儀性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測(cè)量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

簡(jiǎn)要描述：激光橢偏儀SE 400adv可用于從可選擇的、應(yīng)用特定的入射角度表征單層薄膜和基片。自動(dòng)準(zhǔn)直透鏡確保在大多數(shù)平坦反射表面的吸收或透明襯底上進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量...

簡(jiǎn)要描述：綜合薄膜測(cè)量軟件集成的色散模型用于描述所有常用材料的光學(xué)特性。利用快速擬合算法，通過(guò)改變模型參數(shù)將計(jì)算得到的光譜調(diào)整到實(shí)測(cè)光譜。

簡(jiǎn)要描述：臺(tái)式薄膜探針?lè)瓷鋬x二十年來(lái)，SENTECH已經(jīng)成功地銷(xiāo)售了用于各種應(yīng)用的薄膜厚度探針FTPadv。這種臺(tái)式反射儀的特點(diǎn)是不管在低溫或高溫下，在工業(yè)或研...

簡(jiǎn)要描述：反射膜厚儀我們的反射儀的特點(diǎn)是通過(guò)樣品的高度和傾斜調(diào)整進(jìn)行準(zhǔn)確的單光束反射率測(cè)量，光學(xué)布局的高光導(dǎo)允許對(duì)n和k進(jìn)行重復(fù)測(cè)量，對(duì)粗糙表面進(jìn)行測(cè)量以及對(duì)非...

簡(jiǎn)要描述：全金屬密封磁控濺射靶槍是一種用于磁控濺射技術(shù)的設(shè)備，主要由金屬制成的密封容器和靶材組成。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種薄膜制備工藝中，如光學(xué)薄膜、電子薄膜、磁...

簡(jiǎn)要描述：超高真空磁控濺射外延系統(tǒng)是一種的薄膜制備設(shè)備，結(jié)合了超高真空技術(shù)和磁控濺射技術(shù)，用于在襯底上外延生長(zhǎng)高質(zhì)量的薄膜材料。

簡(jiǎn)要描述：有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備：該過(guò)程需要通過(guò)精確控制溫度和沉積速率來(lái)實(shí)現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性。

簡(jiǎn)要描述：金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備：熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡(jiǎn)單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機(jī)和無(wú)機(jī)薄膜，其中以電阻式加...

簡(jiǎn)要描述：熱蒸鍍?cè)O(shè)備是用於沉積材料中簡(jiǎn)單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基...

簡(jiǎn)要描述：FPD-PVD磁控濺鍍?cè)O(shè)備針對(duì)中小尺寸的需求開(kāi)發(fā)串集的PVD 設(shè)備，擁有4個(gè)單獨(dú)的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時(shí)保有彈性和具有選擇性的系統(tǒng)...

簡(jiǎn)要描述：連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個(gè)或多個(gè)濺鍍陰極下方以線性的方式通過(guò)以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過(guò)各個(gè)真空腔內(nèi)。

簡(jiǎn)要描述：超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見(jiàn)。

簡(jiǎn)要描述：磁控共濺鍍?cè)O(shè)備是指同時(shí)有兩個(gè)或多個(gè)磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過(guò)分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來(lái)控制...

簡(jiǎn)要描述：磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過(guò)從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來(lái)形成薄膜。在這種技術(shù)中，大多使用氬氣或氮?dú)獾入x子轟擊靶材，並將基...

簡(jiǎn)要描述：激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)。它能在高真空、真空條件下實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)監(jiān)控...

簡(jiǎn)要描述：剝離成形電子束設(shè)備：對(duì)于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來(lái)完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時(shí)，就可以采用 Lift...

簡(jiǎn)要描述：超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見(jiàn)。超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要，因?yàn)閷?shí)驗(yàn)通...