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高濃度臭氧水（O3）生成系統

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更新時間：2021-08-04 09:51:42瀏覽次數：312次

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概述該設備為專用高濃度O3臭氧水生成，可用于玻璃基本、液晶面板、半導體以及硅片等產品的生產制程中替代雙氧水等工序使用

概述

該設備為專用高濃度O3臭氧水生成，可用于玻璃基本、液晶面板、半導體以及硅片等產品的生產制程中替代雙氧水等工序使用。
目前如制絨后清洗、鍍膜前清洗、普代RCA清洗、BOE清洗.黑硅表面清洗、高質氧化膜生長以及高清要求的消毒殺菌均有大幅度的高效使用。

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