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首先是加熱烘烤除氣。它可以除去結合能較低的吸附氣體，使真空系統能在規定抽氣時間內達到較低的壓力。這種方法是真空系統材料除氣的常用方法之一，形式原理也很好理解。簡單說就是在抽氣循環的某一階段將真空系統升溫，隨后又使之降到環境溫度，這個過程中使吸附氣體從被加熱的表面上解吸。烘烤加熱后，材料的解吸速率要遠遠大于在環境溫度下的解吸速率，對于解吸的氣體，再通過真空泵從系統中排除。
其次就是電子束轟擊除氣。它通過低壓直流電子轟擊或者高壓脈沖電子轟擊，將電子打到需除氣的材料表面，并進入材料表面較深處。這個過程中，電子束將大部分能量以熱能的形式傳給固體（可以將固體表面加熱到500℃，溫度可以有電氣控制系統控制），使吸附在表面的原子從材料表面釋放出來。同時電子束轟擊將表面加熱后，還會促使內部原子向表面擴散并從表面解吸。與加熱烘烤除氣不同，電子束轟擊除氣對材料表面的氧化膜破壞非常迅速，因此常用于純金屬陰極真空器件的除氣，可以除去表面氧化膜與微突起。
第三離子轟擊除氣。離子轟擊除氣利用離子源或者空間輝光放電而產生的氣體離子來轟擊工件材料表面，使吸附在材料表面層的氣體、氧化物等發生濺射作用而分解解吸出來，轟擊過程也會加熱工件表面。為了使濺射作用更為強烈，一般會使用惰性氣體來進行離化來獲得轟擊離子。但離子轟擊除氣一般不能用于電真空器件的除氣，因為離子轟擊過程會對器件陰極產生較大危害，破壞涂層產生離子斑，對吸附有氧或鹵素的電極也會產生類似破環。
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